14.03.2023 06:51

Перспективы новых машин Applied Materials для производства полупроводников

Недавно компания Applied Materials Inc. (NASDAQ: AMAT) представила новое оборудование для производства полупроводников. Компания ожидает, что в ближайшие годы новинки принесут сотни миллионов долларов дохода. Но, главное, Applied Materials впервые так значительно затрагивает ниши конкурента  ASML Holding N.V.

(NASDAQ: ASML). Это может придать импульс к переходу индустрии на новые технологии.

 

Applied Materials на прошлой неделе представила сразу две промышленные установки. Это новая система литографии EUV под названием Centura Sculpta и метрологическая система VeritySEM 10. 

 

Уникальная особенность Centura Sculpta – возможность сокращения операций создания шаблона для литографии до одной. До сих пор для подготовки шаблона EUV, особенно для наиболее миниатюрных и сложных чипов, требовалось несколько этапов ультрафиолетовой литографии. Это не только повышает себестоимость изделий, но и приводит иногда к порче дорогостоящей пластины из-за брака. Для системы Centura Sculpta требуется один шаблон, который масштабируется в требуемых размерах. Проще говоря, система позволяет, например, сразу производить многослойные сложные чипы из одного шаблона, без необходимости лишний раз менять шаблоны и рисковать повредить или загрязнить пластину.

 

 

 

По расчетам Applied Materials, новая система позволит сократить производственные затраты всего до $50 на одну пластину, или до $5 млн на 100 тыс. пластин. Одновременно резко сократится экологическая нагрузка, в частности потребление воды.

 

Дополнительную экономию обеспечивает и новая система VeritySEM 10. Она является альтернативой традиционным сканирующим электронным микроскопам CD-SEM. Такие микроскопы давно применяются для проверки качества рисунков чипов на пластине, но они требуют крайне точной настройки, чтобы электронный луч не повредил уже готовую (и еще более дорогую, чем до EUV) пластину. У системы VeritySEM 10 энергия луча намного ниже, но разрешающая способность вдвое лучше. В итоге можно тестировать пластины на 30% быстрее и с намного меньшим риском повреждения сложных чипов, таких как память 3D NAND. Почти наверняка VeritySEM 10 будет пользоваться высоким спросом в ближайшие годы, поскольку выгоды от ее использования можно получить сразу, и они особенно ощутимы для чипов с высокой плотностью компоновки.

 

Новое оборудование Applied Materials «вторгается на территорию» ASML Holding, которая также производит оборудование для EUV. Но принятие и внедрение такой сложной и дорогой системы потребует нескольких лет. За это время ASML Holding почти наверняка увеличит усилия по разработке собственных новых систем.

 

В целом, обострение конкуренции и приток инноваций ускорят прогресс и сократят себестоимость наиболее передовых чипов, что хорошо дляглобального тренда цифровой трансформации.

 

На торгах 13 марта акция AMAT стоила $115,84.